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    TDF系列X射線晶體分析儀
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    TDF系列X射線晶體分析儀

    TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質的結構和單晶位錯等。
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    TDF系列X射線晶體分析儀

      

    概述

    TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參

    數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質的結構和單晶位錯等。

     

    特點

    TDF系列X射線晶體分析儀采用立式管套,四個窗口可以同時使用。

    TDF系列X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術,控制精度高、抗干擾性好,可實現本系統可靠地工作,PLC控制高壓的

    開關、升降、具有自動訓練X光管的功能,有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。

     

    高壓發生器(采用進口PLC控制)

    管電壓:10-60KV;

    管電流:2-60mA;

    管電壓、管電流穩定度≤±0.005%;

    額定輸出功率:3KW。

     

    高壓電纜   

    介電電壓≥100KV;

    長度:2M。

     

    X射線管

    額定功率:2.4KW;

    焦點尺寸(mm2):點焦點(1×1)線焦點(1×10);

    靶材:Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等。
         

    X射線照相機

    勞厄相機(大小粉末)

    平板相機

    三維樣品臺

    美國Multiwire相機

     

    X射線防護罩

    采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩,外射線量不大于0.1µ Sv/h

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